2024年1月，苏州惟光探真科技有限公司正式推出深紫外光电流测试系统，该系统是行业内首次推出采用200nm以下激光作为光源的解决方案，填补了国内在超宽禁带半导体材料在深紫外波段光学性能表征的空白。针对第三代半导体材料和 MicroLED 新型器件先进制程中面临的发光性质、应力和载流子浓度不均匀等问题，该系统提供了有效的测试解决方案，旨在推动半导体行业的技术进步。

惟光探真依托自主知识产权的激光辅助离焦量传感器、小型化科勒照明系统、高稳定性的系统集成设计、数据处理和软件算法等核心技术，开发了这款深紫外光电流测试系统。该系统能够对 SiC、GaN 等第三代半导体材料和 MicroLED 新型器件的发光性质、应力和载流子浓度进行测量，帮助晶圆厂商更好地理解材料特性，从而优化生产工艺，提高产品良率。

在半导体产业中，随着技术的不断进步，对于材料和器件性能的要求越来越高。第三代半导体材料由于其优异的性能，如高击穿电场、高电子迁移率等，在电力电子、光电子等领域具有广泛的应用前景。然而，这些材料在制备过程中面临着诸多挑战，如发光性质不均匀、应力分布不均等，这些问题严重影响了器件的性能和可靠性。惟光探真的深紫外光电流测试系统能够实时监测材料和器件的性能参数，为厂商提供关键的数据支持，帮助他们解决生产过程中的难题。

“我们很高兴能够推出这款深紫外光电流测试系统，” 惟光探真总经理刘争晖表示，“这一系统的推出，是我们团队多年来在半导体光电测试领域技术积累的成果。我们希望通过提供高性能的测试设备，帮助半导体企业提升产品质量，推动整个行业的发展。”

深紫外光电流测试系统的应用领域广泛，不仅可用于半导体材料的研发与生产过程中的质量控制，还在光电器件性能检测、光学材料特性分析等方面具有重要的应用价值。随着半导体产业的不断发展，对高性能测试设备的需求日益增长，惟光探真的这款新产品将为行业发展注入新的活力。